全國免費咨詢電話：400-811-7869
在所進行的窯爐煅燒操作中，回轉窯內(nèi)硫化礦的氧化焙燒包含了許多放熱反應，因此供熱不會成為影響物料反應速度的因素，相反物理的煅燒將會有足夠的時間進行。
在硫化物顆粒的氧化階段，焙燒反應速度被化學反應速度所制約，但是當反應進行到某一程度時，物料表面將會被氧化生成物給覆蓋，而參加反應的氧通過氧化物層向反應界面擴散的速度，以及反應生成物SO2通過擴散從反應界離開的速度，將會變成總氧化速度的控制步驟。因此回轉窯內(nèi)所進行的焙燒反應步驟可總結如下：
1、氧經(jīng)過顆粒周圍的氣體膜而向其表面擴散；
2、氧經(jīng)過顆粒表面的氧化生成物向反應界擴散；
3、在反應界面上開始化學反應；
4、反應生成的SO2氣體將會以和氧不同的方向擴散。
因此物料中的焙燒反應是由顆粒表面逐漸向中心部位進行的，硫化物顆粒及其周圍氣體的濃度我們可以利用如圖所示模型來表示。
由圖可知，當氧化生成物一旦形成后，反應界面的氧分壓將會呈下降趨勢，氧的擴散速度就成為總反應速度的控制步驟。
文章來自：http://sbtdd.com/